半导体展露脸202广明源行将5深圳世界

6月4-6日，广明我国（深圳）世界。源行半导体
。将露界半博览会将在深圳世界会议 。脸深中心 。圳世展举办。导体广明源（展位号 ：1 。广明4G。源行22）将携172nm等紫外线系列光源、将露界半设备与模组露脸，脸深要点展现172nm准分子光在晶圆光清洗、圳世展半导体基材外表活化及超纯水TOC降解等工艺环节的导体使用解决方案。

诚邀职业同伴莅临沟通 ，广明共探172nm等紫外光在 。源行半导体制作。将露界半范畴的立异使用，携手敞开协作新篇章。

观展攻略
。

2025我国（深圳）世界半导体博览会。

时刻
：2025年6月4-6日。

地址 ：深圳世界会议中心14号馆 。

展位号：14G22 。

172nm准分子光立异使用。

助力半导体制作业高质效晋级。

1晶圆/掩膜版光清洗
。

功用：高效去除各类微观有机污染物 ，完成超净外表。

优势：无化学残留、低温无损伤、原子级洁净度。

使用：晶圆 、光罩、掩膜版
、显现屏、PET、。PCB。等的外表有机污染物清洁、封装前预处理 、光刻胶去除。

使用作用。

172nm清洁纳米压印模具 ，进步洁净度。

2晶圆键合改性 
。

功用  ：可快速精准调理外表亲水性以及粘附功用
。

优势
：无热效应、快速处理、无化学残留。

使用 ：薄膜堆积前处理、 。MEMS。封装 、3D封装、晶圆键合
、倒装芯片键合、引线键合等 。高精度。芯片制作 。 
。

使用作用 。

照耀后，亲水性进步，接触角显着变小
。

3超纯水TOC降解。

功用：高效降解超纯水中的总有机碳（TOC），洁净度可达ppb级
。

优势：无化学增加 、在线降解、高效安稳。

使用
：半导体晶圆制程 、显现面板出产的超纯水系统 。

技能原理。

172nm紫外光可促进水体生成自由基，

把有机物快速氧化为CO₂和H₂O。

诚邀莅临，讨论职业新机遇。

深耕光科技使用研制与制作20多年，广明源专心于172nm准分子光源在半导体制作工艺中的立异使用，继续为职业供给高效
、牢靠 、高性价比的技能解决方案。

依托专业的流水线设备设计与定制才能 ，公司可以依据客户需求，供给半导体等高端制作制程所需的中心光源部件、模组及设备
，掩盖从试验验证到大规模量产的全流程解决方案
，满意不同阶段的出产需求。一起 ，依托自主172nm光源技能，助力工业链补链强链，提高国产化代替才能，保证供应链安全与工业系统安稳 。

本次展会 ，咱们等待与您面对面沟通  ，讨论172nm准分子光在半导体制作范畴不同工艺环节中的技能细节与使用经历，共享职业洞见，助力半导体制作技能继续优化晋级
。

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